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TF1000-200HV-T10

產(chǎn)品類別：TF真空管式爐

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：
該設(shè)備主要用于半導(dǎo)體芯片、集成電路芯片,、探測(cè)器芯片,、激光器芯片、金屬濺射薄膜壓敏芯片,、紅外成像芯片,、非制冷紅外熱成像芯片、氣體傳感器芯片,、半導(dǎo)體電容式指紋辨識(shí)芯片、功率半導(dǎo)體器件,、高性能硅基輻射探測(cè)器的高真空低溫封裝工藝,。

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詳細(xì)介紹

額定溫度：1200℃

工作尺寸：200*400mm

真空度：6*10-5Pa

該設(shè)備主要用于半導(dǎo)體芯片、集成電路芯片,、探測(cè)器芯片,、激光器芯片,、金屬濺射薄膜壓敏芯片、紅外成像芯片,、非制冷紅外熱成像芯片,、氣體傳感器芯片、半導(dǎo)體電容式指紋辨識(shí)芯片,、功率半導(dǎo)體器件,、高性能硅基輻射探測(cè)器的高真空低溫封裝工藝。

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